氣相沉積爐
cjl
設(shè)備用途:
利用真空蒸鍍方式生產(chǎn)硅的氧化物;
適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn);溫差控制精度高,高溫高真空;具備高真空升華,反應(yīng),脫脂,脫水,氣相沉積材料自動研磨刮料,爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。
設(shè)備特點:
一次裝料量大, 生產(chǎn)效率高。
全程全封閉全自動化作業(yè),避免粉塵飛揚,生產(chǎn)現(xiàn)場環(huán)境整潔干凈。
溫度控制1500度以內(nèi),升溫速率快。
可以在真空度下保持穩(wěn)定運行工作。
設(shè)備參數(shù):